en

Zgodovina Silicijeve doline

Rast Silicijeve doline se je začela samostojno v sožitju z univerzo Stanford in podporo inovativnih idej s tveganim kapitalom.

Frederick Terman je na Stanfordu diplomiral iz kemije in magistriral iz elektrotehnike. Nato je doktoriral na MIT. Med drugo svetovno vojno je sodeloval pri razvoju radarske tehnike, ki je pomagala Američanom pri bombardiranju Nemčije. Med vojno je na Harvardu vodil laboratorij radarske tehnike, ki je bil takrat strogo zaupen in je bil spin-of iz prejšnjega laboratorija za sevanje. Razvijali so motilce sovražnih radarjev, nastavljive sprejemnike in aluminijaste trakove, ki so jih spustili iz letal, da bi motili sprejem sovražnih radarjev. Razni triki so prihranili mnogo zavezniških življenj. Po drugi svetovni vojni se je vrnil na Stanford z veliko znanja in s seboj pripeljal mnogo strokovnjakov. Pred tem je bilo v okolici Stanforda le malo služb na področju radarske tehnike in večina strokovnjakov je hodila na vzhod. Njegova študenta sta bila med drugimi tudi William Hewlett and David Packard. Študente je spodbujal, da odpirajo svoja lastna podjetja in jim pri tem tudi pomagal. Frederick Terman zato poleg Williama Shockleya, ki je izumil tranzistor velja za očeta Silicijeve doline.

Odlična klima med podjetji in akademskim svetom je pripomogla k odličnemu prenosu znanj in sodelovanju, prav tako pa je v okviru ameriškega obrambnega programa področje Silicijeve doline dobivalo veliko finančnih sredstev, saj se razvoj po drugi svetovni ni ustavil. Na obzorju so bile nove nevarnosti. Vzhodni blok je bil namreč potencialna jedrska nevarnost. Stanford je postal središče odličnosti za NSA, CIO , NAVY in Airforce. Razvoj elektrotehnike je bil pospešen, s pojavom integriranih vezij in odkritjem tranzistorja pa se je področje raziskovanja še razširilo. Pojavilo se je vedno več laboratorijev in eden izmed njih je bil tudi »Shockley Semiconductor Laboratory«.

Leta 1956 je torej William Shockley odprl Shockley Semiconductor Laboratory kot podružnico podjetja Beckman Instruments v Mountain View-u, California. Najprej je za sodelavce poizkusil pridobiti nekaj nekdanjih kolegov iz Bellovih laboratorijev na vzhodni obali (NY) vendar neuspešno. Nato pa je k sodelovanju pritegnil osem najboljših študentov iz različnih ameriških tehničnih univerz (ti gospodje so bili: Julius Blank, Victor Grinich, Jean Hoerni, Eugene Kleiner, Jay Last, Gordon Moore, Robert Noyce in Sheldon Roberts). Začeli so z razvojem tranzistorja na silicijevem substratu. (Pred tem je bil kot substrat polprevodnikov povečini uporabljan germanij). Že leto kasneje so se odnosi med osmerico in Shockleyem tako poslabšali, da je osmerica zapustila Shockleya (tako so postali znani kot »izdajalskih osem (angl. traitorous eight)«) in iskala kandidata za nadaljnjo financiranje razvoja njihovega projekta. Obrnili so se tudi na Shermana Fairchilda, ta je bil navdušen nad predstavitvijo in vizijo Roberta Noycea, ter je pristal na ustanovitev nove podružnice njegovega podjetja, ki je še danes poznana pod imenom Fairchild Semiconductor. Prvi tranzistorji na osnovi silicija so bili v t.i. mesa izvedbi. Večina tranzistorjev tistega časa je bila izdelana v tej izvedbi in vsi so imeli težavo, da v primeru, da polprevodnik ni bil hermetično zaprt v ohišju so se na bazno-kolektorskem spoju začele nabirati nečistoče, ki so sčasoma poslabšale karakteristike tranzistorja. Leta 1959 se je Jean Hoerni (takrat še vedno zaposlen pri Fairchildu) domislil načina proizvodnje tranzistorjev, ki je odpravil te pomanjkljivosti in omogočil, da se je tranzistorje lahko pakiralo v enostavna in poceni plastična ohišja. Ta način proizvodnje je znan kot planarni postopek. Ta iznajdba povzročila revolucijo v proizvodnji tranzistorjev, saj je omogočala izvedbo več tranzistorjev na istem substratu, kar je v nadaljevanju vodilo do razvoja integriranih vezij. Že leto za tem (1960) Je Robertu Noyceu uspelo izdelati prvo planarno integrirano vezje. Dve leti prej je izum sicer uspel tudi Jacku Kilbyju iz podjetja Texas Instruments, vendar je ta za povezavo med tranzistorji uporabljal tanke žičke, medtem ko je podjetje Fairchild uporabljalo thinfilm. Kilbyjev izum je bil izpodrinjen, saj je bil, s stališča masovne proizvodnje, Fairchildov postopek precej enostavnejši. Prihodki podjetja Fairchild Semiconductor so se nato vsako leto podvojili in leta 1966 je bilo podjetje drugo po višini prihodkov (takoj za podjetjem Texas Instruments) podjetij istega sektorja, Robert Noyce pa je bil nagrajen s funkcijo podpredsednika družbe.

Tipične značilnosti modela Silicijeve doline

  • Vera v podjetništvo
  • Ključna vloga tveganega kapitala
  • Kritična vloga raziskovalnih univerz
  • Velika ponudba visoko usposobljenih raziskovalcev
  • Koristi od lokacije podjetja
  • Velika vloga pri prostem trgu z omejenim vplivom države
  • Visok delež visoko usposobljenih inženirjev, znanstvenikov, strokovnjakov in vodilnih delavcev predvsem z elektrotehničnim in računalniškim znanjem
  • Razvoj izdelkov in stalne inovacije v življenskih dobah izdelkov in velike naložbe v obrate in opremo
  • Svetovni trg za svoje izdelke
  • Znižanje proizvodnih stroškov kar za 30% za vsako podvojitev komulativnega obsega

Rast in veljavo Silicijevi dolini dajejo visokotehnološka podjetja, ki z inovacijami novih tehnologij ustvarjajo in narekujejo svetovne trende. S tem gre velik del sredstev v razvoj in raziskave, ki omogočajo ustvarjanje kakovostnih in naprednih izdelkov ali storitev. Prav visokotehnološka podjetja ustvarjajo tisto dodano vrednost, ki pogosto manjka slovenskim podjetjem.

Znanje je dejavnik, ki je spremljal rast Silicijeve doline skozi njeno celotno zgodovino. Podporna infrastruktura in povezanost z inštitucijami znanja so prinesle dolini tisto prednost, ki je druga območja niso imela. K rasti doline so veliko prispevali visoko usposobljeni kadri, predvsem raziskovalci, ki so razvijali napredne in inovativne ideje. Še bolj pomembno pa je bilo dejstvo, da te ideje niso ostale v inštitucijah znanj, ampak so se prenesla v podjetja. Prav ta prenos znanja iz raziskovalne sfere v podjetja in sodelovanje univerz s podjetji je velik problem slovenskega gospodarstva. Podjetja kot razloge za takšno stanje predvsem navajajo nezainteresiranost raziskovalne sfere za sodelovanje in neustreznost idej in prenos le-teh.

Pri razvoju in rasti Silicijeve doline je imela pomembno vlogo tudi Univerza Stanford, ki predstavlja vrelec invencij ( obetavnih novih idej) oziroma potencialnih inovacij ( do uporabnosti dognanih inovacij), ki omogočajo napredek na področju raziskav in spodbujajo nastanek novih podjetij. Takšna visoko tehnološka nova podjetja so Silicijevo dolino naredilo za eno izmed najbolj inovativnih in produktivnih območij na svetu. Za uspeh visoko tehnoloških podjetij in uresničitev inovativnih idej z visoko dodano vrednostjo je potreben kapital, ki ga v Silicijevi dolini predstavlja tvegani kapital iz zasebnih virov ter želja po rasti in finančni podpori. Uspeh Silicijeve doline zaznamujejo tudi start-up podjetja, ki razvijajo inovativne ideje in prinašajo visoko dodano vrednost ter se razvijajo v svetovne multinacionalke.

Povzeto po reviji Ventil